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  • 半导体 刻蚀工艺(ETCH)
    半导体 刻蚀工艺(ETCH)

    刻蚀工艺(ETCH):通过MFC..控制真空状态下的反应气体,对半导体材料进行等离子刻蚀,得到所需要的精密微观几何结构。

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  • 半导体行业 化学气相沉积(CVD)
    半导体行业 化学气相沉积(CVD)

    化学气相沉积(CVD):利用高精度的质量流量控制[ 以下简称MFC]质量流量计[以下简称MFM]有利于..控制输出气体,确保近乎**的晶圆镀膜品质。

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  • 光伏行业 单晶炉氩气控制
    光伏行业 单晶炉氩气控制

    单晶炉氩气控制:使用MFC用来测控并控制高纯度氩气输入的流量,提高单晶炉内的真空度和温度场的控制精度,从而得到均匀、排列**的单晶硅。

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  • 光伏行业 等离子体增强化学气象沉积
    光伏行业 等离子体增强化学气象沉积

    等离子体增强化学气象沉积(PECVD):作为制备高效晶体硅太阳能电池的重要步骤,使用高精度、快速响应的MFC是制备**薄膜的必要条件。

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  • 生物科技
    生物科技

    生物发酵:通过MFC..控制输入气体的流量,配备温度计、浓度计等,从而生成稳定、**可重复的发酵环境。

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  • 小微流量计量的校准
    小微流量计量的校准

    在实际校准中,通常采用将被测设备与高精度MFC或MFM串联,测量相同气体流量,比较两台设备的度数。

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  • 真空镀膜行业
    真空镀膜行业

    反应溅射镀膜: 通过MFC..、稳定控制氩气的流量,使处于等离子高效轰击靶材表面,确保基体表面沉积形成均匀的膜层。

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